产品信息:
原子层沉积(ALD)是一种可以将物质以单原子膜的形式一层一层的镀在基底表面的方法, ALD的自限制性和互补性致使该技术对薄膜的成份和厚度具有出色的控制能力,所制备的薄膜保形性好、纯度高且均匀。原子层沉积技术由于其沉积参数的高度可控型(厚度,成份和结构),优异的沉积均匀性和一致性使得其在微纳米电子和纳米材料等领域具有广泛的应用潜力。本原子层沉积设备能够沉积的薄膜主要包括金属氧化物(氧化锌、二氧化钛、三氧化铝和二氧化锡)和贵金属(铂和铱), 可应用于催化,电化学储能,太阳能电池,光电器件等领域。
代表性样品的扫描电镜和透射电镜照片如下: